울산과학기술원(UNIST), 삼성전자 종합기술원 전문연구원과 기초과학연구원(IBS)이 국제공동연구를 통해 집적도가 높아져도 전기적 간섭이 덜 발생하는 반도체 신소재 '초저유전율 절연체'를 개발했다고 합니다.

소자를 소형화할 수 있는 핵심 소재를 확보한 것으로 메모리 등 반도체 칩의 작동 속도를 '더 빠르게' 만들 수 있을 것으로 기대된다고 하네요. 이 연구 결과는 국제적으로 저명한 학술지인 네이처에도 게재되었다고 하네요.

이를 통해 우리 반도체 산업이 초격차를 더더욱 가중시켜 나갈 수 있었으면 좋겠습니다. 기사 원무은 아래 링크를 참조해 주시기 바랍니다.

https://www.etnews.com/20200624000227