나노종합기술원에서 추가적인 장비투자 없이 12인치 반도체 장비만으로 20nm 미세패턴 공정기술 개발에 성공했다고 밝혔습니다.

이는 12인치 40nm 노광공정과 식각공정에 사용되는 기존 장비들을 토대로 20nm 미세패턴을 구현한 것이라 예삱러감과 개발기간 단축 등 매우 의미있는 성과인 것으로 보이며, 우리 관련 반도체 기업들에게 빨리 상용화 기술로 제공되어 경쟁력 제고와 생산성 개선에 기여할 수 있었으면 좋겠네요.